鉭箔制作成靶材用于物理氣相沉積，過程中有哪些關鍵技術(shù)要點？

關鍵技術(shù)要點包括保證鉭箔的純度和表面質(zhì)量，純度不足或表面有雜質(zhì)會影響沉積薄膜的質(zhì)量；控制靶材的密度和致密度，均勻致密的靶材可使沉積過程更穩(wěn)定，薄膜厚度和成分更均勻；合理設置沉積參數(shù)，如真空度、濺射功率、濺射氣體種類和流量等，這些參數(shù)會影響鉭原子的濺射速率和沉積速率，進而影響薄膜的性能和質(zhì)量；此外，還需注意靶材的冷卻，防止因溫度過高導致靶材變形或性能改變。

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