鉻靶在真空鍍膜中有什么優勢？

鉻靶在真空鍍膜領域應用廣泛，如在半導體、低輻射玻璃、裝飾和功能性膜層等方面。高純鉻靶材經磁控濺射鍍膜，具備抗腐蝕、生物兼容性好、濺射覆著力強以及導熱導電等特點。采用特定技術制備的鉻靶材，致密度可達 99.5%，平均晶粒度小于 50μm，且結構均勻。在實際應用中，可用于汽車玻璃涂層、光伏電池制造、電池制造、燃料電池以及裝飾和耐腐蝕涂層等真空應用場景 。

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