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新聞詳情
鈮基超導量子比特的量子相干時間如何提升至 800 微秒？1
采用電子束光刻（分辨率 50nm）+ 原子層沉積（ALD）制備 Nb/AlOx/Nb 約瑟夫森結，通過優化氧化層厚度（1.5nm）和低溫退火（200℃/1 小時），相干時間從 200 微秒提升至 800 微秒，用于 IBM 量子計算機芯片。 寶雞天博金屬在金屬材料加工行業內深耕多年，產品保質保量，致力于服務好每位客戶，歡迎各位客戶隨時來電咨詢：13347285481陳（WX同號） 聲明：此篇為寶雞天博金屬材料有限公司原創文章，轉載請標明出處鏈接：http://www.fzcnb.com/h-nd-1268.html
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