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型號
:
TB0-21
產地
:
陜西寶雞天博金屬
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(2N)99%鋁旋轉濺射靶
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(2N5)99.5%鋁旋轉濺射靶
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寶雞天博金屬材料有限公司專門生產高純度鋁濺射靶,其密度和平均晶粒尺寸盡可能高,可用于半導體、化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)顯示器及光學應用。
我們的標準薄膜濺射靶可以是單塊的,也可以是平面靶,尺寸和結構高達820毫米,孔鉆位置,螺紋,斜邊,凹槽和背襯設計用于舊的濺射裝置和最新的工藝設備,如大面積太陽能鍍膜或者燃料電池和倒裝芯片的應用。研究規模的目標也生產,以及定制的大小和合金。所有的目標都是用最好的技術分析的,包括X射線熒光(XRF)、輝光放電質譜(GDMS)和電感耦合等離子體(ICP)。”濺射“允許通過離子轟擊將目標材料控制地移除并轉換成定向氣相/等離子體相,將超高純度濺射金屬或氧化物材料薄膜沉積到另一固體基底上。材料采用結晶、固態和升華等超高純度工藝生產。
寶雞天博金屬專業生產用于商業和研究應用以及新專利技術的定制成分。
寶雞天博金屬還將任何稀土金屬和大多數其他先進材料鑄造成棒、棒或板以及其他加工形狀。我們也生產鋁作為圓盤,顆粒,錠,球,片,粉,棒。其他形狀可按要求提供。
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