鉭鍍膜顆粒是一種表面涂層顆粒，通常由鉭核心和鉭的氧化物涂層組成。這種顆粒具有優異的耐腐蝕性、高溫穩定性、機械強度和電化學性能，因此被廣泛應用于高溫、腐蝕等惡劣環境下的電子、光電、航空航天、化工等領域。

鉭鍍膜顆粒的制備方法主要有化學氣相沉積、磁控濺射、電化學沉積、物理氣相沉積等多種方法。其中，磁控濺射法是目前應用最為廣泛的一種方法，它可以制備出均勻、致密、厚度可調的鉭薄膜。

鉭鍍膜顆粒的應用領域非常廣泛，例如在集成電路、太陽能電池、發動機等方面都有應用。此外，鉭鍍膜顆粒還可以用于制備鉭電容器、電感器等電子元器件，以及用作觸媒、催化劑等化學材料。

鉭表面涂層顆粒通常是指將鉭表面涂上一層鉭的微小顆粒。這種涂層可以通過多種方法制備，例如物理氣相沉積、化學氣相沉積、濺射和電化學沉積等。

這種涂層通常具有很高的化學穩定性和良好的耐腐蝕性能，能夠提高鉭的表面硬度和耐磨性。此外，這種涂層還可以增加鉭的界面黏附性和防止表面氧化。

在工業領域，鉭表面涂層顆粒通常被用于制備高溫、高壓和腐蝕性環境下的材料，例如渦輪機葉片、航空發動機部件和化工反應器等。