鉭鍍膜顆粒是一種表面涂層顆粒，通常由鉭核心和鉭的氧化物涂層組成。這種顆粒具有優(yōu)異的耐腐蝕性、高溫穩(wěn)定性、機(jī)械強(qiáng)度和電化學(xué)性能，因此被廣泛應(yīng)用于高溫、腐蝕等惡劣環(huán)境下的電子、光電、航空航天、化工等領(lǐng)域。

鉭鍍膜顆粒的制備方法主要有化學(xué)氣相沉積、磁控濺射、電化學(xué)沉積、物理氣相沉積等多種方法。其中，磁控濺射法是目前應(yīng)用最為廣泛的一種方法，它可以制備出均勻、致密、厚度可調(diào)的鉭薄膜。

鉭鍍膜顆粒的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，例如在集成電路、太陽能電池、發(fā)動機(jī)等方面都有應(yīng)用。此外，鉭鍍膜顆粒還可以用于制備鉭電容器、電感器等電子元器件，以及用作觸媒、催化劑等化學(xué)材料。

鉭表面涂層顆粒通常是指將鉭表面涂上一層鉭的微小顆粒。這種涂層可以通過多種方法制備，例如物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、濺射和電化學(xué)沉積等。

這種涂層通常具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性和良好的耐腐蝕性能，能夠提高鉭的表面硬度和耐磨性。此外，這種涂層還可以增加鉭的界面黏附性和防止表面氧化。

在工業(yè)領(lǐng)域，鉭表面涂層顆粒通常被用于制備高溫、高壓和腐蝕性環(huán)境下的材料，例如渦輪機(jī)葉片、航空發(fā)動機(jī)部件和化工反應(yīng)器等。