鐵靶材是一種用于濺射沉積的原材料，主要由高純鐵制成。鐵靶材的純度通常為99.99%或99.999%，其尺寸和形狀可根據需要進行定制。此外，鐵靶材也可用于電子工業中的蒸發源，用于制備鐵薄膜和磁性材料等。
鐵靶材可以鍍多種顏色，這取決于具體的的應用需求和工藝技術。常見的鍍膜顏色包括鉻（銀色）、鋁（銀白色）、鎳（銀白色）、鈷（銀白色）、鈷鉻合金（銀色）、鈦（深灰色）、鈦合金（灰色）和鐵（灰色）等。不同的顏色可用于滿足不同的需求，例如裝飾、防護、光學和電子等領域。在鍍膜過程中，需要控制鍍膜工藝參數，如氧氣壓力、電流密度、溫度等，以確保鍍膜顏色的穩定性和耐久性。
鐵合金靶材是一種用于物理蒸發、磁控濺射、分子束外延（MBE）等物理氣相沉積（PVD）技術的材料。這些技術常用于薄膜沉積、薄膜磁性研究、半導體器件制造、光學涂層和其他各種應用。
鐵合金靶材通常是將鐵與其他金屬元素（如鎳、鉻、鉬、鈷等）按照一定比例混合制成的。合金化可以改變材料的物理特性，比如磁性、導電性等，使其適用于特定的應用。
以下是一些常見的鐵合金靶材類型：
鎳鐵合金靶材：包括不同比例的鎳鐵合金，如Permalloy（常用Ni80Fe20）等，用于磁性材料研究和磁存儲器件制造。
鉻鐵合金靶材：這種合金常用于制備鐵素體不銹鋼薄膜。
鉬鐵合金靶材：含有鐵的鉬合金，適用于光學涂層和一些電子器件的制備。
鈷鐵合金靶材：鈷鐵合金也是一種常見的磁性材料，用于磁性薄膜的研究和磁存儲器件。
鋁鐵合金靶材：鋁和鐵的合金，用于薄膜制備和其他工業應用。
這些鐵合金靶材具有廣泛的應用，可以根據特定需求制備不同成分和形狀的靶材。在物理氣相沉積技術中，通過將高純度的靶材暴露在激發源中，原子或分子被蒸發并沉積在基底上，從而形成所需的薄膜或涂層。
