鈮板在真空鍍膜機中的靶材應用原理是什么？

鈮板作為濺射靶材，在真空環境中通過離子轟擊釋放鈮原子，沉積在基底表面形成鈮膜。其高純度（99.95%）可保證膜層均勻性（厚度偏差＜2%），且濺射速率穩定（0.5-1nm/s），廣泛用于半導體芯片的鈮阻擋層（防止銅擴散）或光學鍍膜的高折射率層。

寶雞天博金屬在金屬材料加工行業內深耕多年，產品保質保量，致力于服務好每位客戶，歡迎各位客戶隨時來電咨詢：13347285481陳（WX同號）