鋯板在真空鍍膜中的濺射速率與膜層均勻性如何？

高純度鋯板（99.95%）作為濺射靶材，在 Ar 離子轟擊下濺射速率可達 0.8-1.2nm/s，沉積的鋯膜厚度偏差＜2%。通過優化濺射功率（100-300W）和氣壓（0.5-1Pa），可控制膜層致密度（＞98%）和表面粗糙度（Ra＜5nm），適用于半導體芯片的擴散阻擋層。

寶雞天博金屬在金屬材料加工行業內深耕多年，產品保質保量，致力于服務好每位客戶，歡迎各位客戶隨時來電咨詢：13347285481陳（WX同號）