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什么是濺射靶材?

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來源:天博金屬網址:http://www.bjtianbometal.com

顧名思義是一種物理氣相鍍膜方式,

濺射靶材利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

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