鈦靶濺射注意事項(xiàng)

在鈦靶濺射過(guò)程中，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈，任何由潤(rùn)滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì)收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。

2. 濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出，達(dá)到工藝所要求的真空度。

3. 保持合適的濺射功率和濺射時(shí)間，以及合適的濺射距離。

4. 保證鈦靶材的純度要求，雜質(zhì)元素含量越低，鈦靶材純度就越高，同時(shí)需要注意不同用途鈦靶材對(duì)純度要求不一樣。

5. 保證均勻晶粒尺度的要求，一般鈦靶需要保證其晶粒尺度在一定范圍內(nèi)。

6. 鈦靶材在濺射之前需要進(jìn)行預(yù)濺射，以去除鈦表面的污染物和增加靶材表面的粗糙度。

7. 在整個(gè)濺射過(guò)程中需要密切關(guān)注濺射速率和濺射均勻性等參數(shù)，并進(jìn)行及時(shí)調(diào)整。

8. 需要注意鈦靶材的保管和放置，避免其受到潮濕、氧化等因素的影響。

總之，在鈦靶濺射過(guò)程中需要注意多個(gè)方面，以確保濺射薄膜的質(zhì)量和性能。