鈦靶濺射注意事項

在鈦靶濺射過程中，需要注意以下幾點：

1. 保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈，任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。

2. 濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。

3. 保持合適的濺射功率和濺射時間，以及合適的濺射距離。

4. 保證鈦靶材的純度要求，雜質元素含量越低，鈦靶材純度就越高，同時需要注意不同用途鈦靶材對純度要求不一樣。

5. 保證均勻晶粒尺度的要求，一般鈦靶需要保證其晶粒尺度在一定范圍內。

6. 鈦靶材在濺射之前需要進行預濺射，以去除鈦表面的污染物和增加靶材表面的粗糙度。

7. 在整個濺射過程中需要密切關注濺射速率和濺射均勻性等參數，并進行及時調整。

8. 需要注意鈦靶材的保管和放置，避免其受到潮濕、氧化等因素的影響。

總之，在鈦靶濺射過程中需要注意多個方面，以確保濺射薄膜的質量和性能。