PVD鍍膜靶材種類有哪些？

PVD（物理氣相沉積）鍍膜技術是一種常用的表面處理技術，廣泛應用于半導體、光學、裝飾、工具和模具等領域。PVD鍍膜過程中使用的靶材種類根據不同的應用需求而變化，常見的PVD鍍膜靶材種類包括：

1. 金屬靶材：

   • 鈦（Ti）：常用于制備氮化鈦（TiN）等裝飾涂層和工具涂層。

   • 鉻（Cr）：常用于制備鉻涂層，具有耐腐蝕性和裝飾效果。

   • 鋁（Al）：常用于制備氧化鋁（Al2O3）或氮化鋁（AlN）涂層，應用于光學和防護涂層。

   • 銅（Cu）：常用于導電涂層和光學涂層。

   • 鎢（W）：用于制備高硬度涂層，應用于工具和模具領域。

2. 合金靶材：

   • 鈦鋁合金（TiAl）：常用于制備高溫氧化防護涂層和硬質涂層。

   • 鉻鎳合金（CrNi）：用于耐腐蝕涂層和裝飾涂層。

   • 鈷鉻合金（CoCr）：用于耐磨涂層和生物醫(yī)用涂層。

   • 鈦鋯合金（TiZr）：用于裝飾和耐腐蝕涂層。

3. 陶瓷靶材：

   • 氧化鋁（Al2O3）：用于絕緣涂層、抗反射涂層和硬質涂層。

   • 氮化硅（Si3N4）：用于耐磨涂層和絕緣涂層。

   • 氧化鋯（ZrO2）：用于裝飾和耐磨涂層。

4. 化合物靶材：

   • 氮化鈦鋁（TiAlN）：常用于刀具涂層，具有高硬度和耐熱性。

   • 氮化鉻（CrN）：用于耐磨涂層和抗腐蝕涂層。

   • 碳化鈦（TiC）：用于硬質涂層，應用于刀具和模具。