解決方案：
選擇密度≥7.1g/cm3 的靶材（理論密度 98% 以上）
優化濺射參數：降低功率密度至 2W/cm2，增加 Ar 氣流量至 20sccm
案例：某光學企業通過以上措施，膜層顆粒缺陷率從 0.3% 降至 0.05%。
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