關鍵數據：純度≥99.995%（5N 級）可使金屬化層雜質缺陷減少 70%
案例：某 14nm 芯片廠使用 5N 鈮靶材，器件擊穿電壓一致性提升至 ±5%
測試標準：通過輝光放電質譜（GD-MS）檢測，Fe/Ni 等雜質＜10ppm
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