關鍵數(shù)據(jù):純度≥99.995%(5N 級)可使金屬化層雜質(zhì)缺陷減少 70%
案例:某 14nm 芯片廠使用 5N 鈮靶材,器件擊穿電壓一致性提升至 ±5%
測試標準:通過輝光放電質(zhì)譜(GD-MS)檢測,F(xiàn)e/Ni 等雜質(zhì)<10ppm
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