技術方案：
控制氧含量＜100ppm（靶材）+ 濺射前 Ar 氣吹掃（純度 99.999%）
引入反應濺射（O?流量 5-10sccm）形成 Nb?O?保護膜
測試數據：膜層氧化度＜2%（XPS 分析）
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