常用工藝:
電解拋光:提升表面光潔度至 Ra≤0.2μm,減少腐蝕風(fēng)險。
陽極氧化:生成 Ta?O?膜(厚度 5-50μm),增強絕緣性或耐磨性。
噴砂處理:粗化表面(Ra 1.6-6.3μm),用于涂層前預(yù)處理。
應(yīng)用場景:醫(yī)療器械需電解拋光,電子元件需陽極氧化絕緣。
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