常用工藝：
電解拋光：提升表面光潔度至 Ra≤0.2μm，減少腐蝕風險。
陽極氧化：生成 Ta?O?膜（厚度 5-50μm），增強絕緣性或耐磨性。
噴砂處理：粗化表面（Ra 1.6-6.3μm），用于涂層前預處理。
應用場景：醫療器械需電解拋光，電子元件需陽極氧化絕緣。
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