高純度熔煉:采用真空電子束熔煉(EB)或真空電弧重熔(VAR)技術(shù),去除雜質(zhì),純度可達 99.999% 以上。
晶??刂疲和ㄟ^冷鍛壓、多向軋制及中間靜壓處理,細化晶粒并優(yōu)化取向,提升濺射均勻性。
精密加工:表面粗糙度控制在 Ra≤0.8μm,平面度誤差小于 0.05mm,確保鍍膜質(zhì)量。
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