高純度熔煉：采用真空電子束熔煉（EB）或真空電弧重熔（VAR）技術，去除雜質，純度可達 99.999% 以上。
晶粒控制：通過冷鍛壓、多向軋制及中間靜壓處理，細化晶粒并優化取向，提升濺射均勻性。
精密加工：表面粗糙度控制在 Ra≤0.8μm，平面度誤差小于 0.05mm，確保鍍膜質量。
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