鉭膜片:優(yōu)先用于強(qiáng)腐蝕、高真空環(huán)境(如半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備),但成本較高。
鈮膜片:更適合高溫、高壓工況(如核反應(yīng)堆冷卻系統(tǒng)),兼具經(jīng)濟(jì)性與耐氧化性。選擇時(shí)需結(jié)合介質(zhì)類型、溫度范圍及預(yù)算綜合評(píng)估。
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