鉭膜片:優先用于強腐蝕、高真空環境(如半導體蝕刻設備),但成本較高。
鈮膜片:更適合高溫、高壓工況(如核反應堆冷卻系統),兼具經濟性與耐氧化性。選擇時需結合介質類型、溫度范圍及預算綜合評估。
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