制備工藝:陽極氧化(電解液 0.5mol/L H3PO4,電壓 40V,溫度 25℃)形成 50nm 孔徑的柱狀晶氧化層,比表面積達 30m2/g。防護數據:在 1000℃空氣中,未涂層鋯合金氧化增重 1.2mg/cm2?h,涂層后降至 0.1mg/cm2?h,且氧化膜與基體結合強度>80MPa(傳統氧化膜僅 30MPa)。
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