晶圓離子注入鎢鉬配件的作用與用途是什么？

掩模：鎢鉬配件在離子注入過程中充當掩模，幫助限制離子的注入區域，從而在晶圓表面形成所需的摻雜圖案或結構。

控制電子性質：離子注入是一種用于改變半導體器件電學性質的重要工藝。鎢鉬配件的使用可以確保控制摻雜物的注入位置和濃度，從而精確調節晶圓的電子性能。

提高生產效率：通過使用鎢鉬配件作為掩模，離子注入過程可以更加精確和穩定，從而提高半導體器件制造的生產效率和產品質量。

提高器件性能：通過精確控制離子注入過程，可以調節半導體器件的性能特性，如電導率、電子遷移率等，從而實現更高性能的器件。

確保制造可靠性：鎢鉬配件具有高熔點、良好的化學穩定性和機械強度，能夠在高溫和化學腐蝕環境下穩定工作，從而確保離子注入過程的穩定性和制造可靠性。