鈦平面靶材是一種主要用于物理氣相沉積(PVD)工藝的材料。它通常是由高純度鈦(金屬元素Ti)制成,形狀為平面狀,即靶材表面是平整的。鈦靶材在PVD工藝中作為目標物質,被高速離子或原子轟擊,從而使鈦原子從靶材表面脫離并沉積在基材(如半導體晶片、光學元件或其他材料)上,形成薄膜層。
鈦靶材在許多高科技領域有廣泛應用,尤其是在半導體制造、太陽能電池、顯示器和光學元件涂層等領域。鈦因其優異的物理和化學性質,如高強度、耐腐蝕性和較好的導電性,使其成為制造各種功能性薄膜的重要材料。