平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材的區(qū)別？

平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材是物理氣相沉積（PVD）工藝中常用的兩種不同形式的靶材，它們在形狀、使用方式和應(yīng)用場景上有所不同：

1. 形狀和結(jié)構(gòu)：

平面靶材：通常為平面或矩形的板狀結(jié)構(gòu)，靶材表面是平整的。在沉積過程中，靶材固定在設(shè)備內(nèi)，材料從靶材表面被轟擊后以直線方式向基材沉積。

旋轉(zhuǎn)靶材：通常呈圓柱形或類似的圓筒形結(jié)構(gòu)，靶材能夠旋轉(zhuǎn)。在沉積過程中，靶材一邊旋轉(zhuǎn)，一邊進行材料的轟擊和沉積。旋轉(zhuǎn)的運動使靶材表面均勻受損，延長了靶材的使用壽命。

2. 材料利用率：

平面靶材：由于靶材表面是固定的，材料沉積會集中在某些區(qū)域，導(dǎo)致靶材的使用率較低。材料往往會在局部區(qū)域被過度消耗，而其他部分未被充分利用。

旋轉(zhuǎn)靶材：通過旋轉(zhuǎn)，靶材的表面均勻地受到轟擊，材料利用率較高，減少了局部過度消耗現(xiàn)象。這樣可以更有效地使用靶材，延長其使用壽命。

3. 適用場景：

平面靶材：適用于需要較小面積沉積的應(yīng)用，或沉積均勻性要求不高的場景。它通常用于實驗室或小規(guī)模生產(chǎn)中。

旋轉(zhuǎn)靶材：適用于大面積沉積和需要高均勻性的場景，尤其是在高端半導(dǎo)體制造、顯示器生產(chǎn)等對薄膜質(zhì)量要求非常高的應(yīng)用中。

4. 成本與效率：

平面靶材：通常制造成本較低，設(shè)備簡單，但材料利用率較低，需要更頻繁的靶材更換。

旋轉(zhuǎn)靶材：制造成本較高，設(shè)備較為復(fù)雜，但由于其材料利用率高和壽命長，在長期生產(chǎn)中能夠提高效率并降低成本。

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