光伏產(chǎn)業(yè)用鉬濺射靶材質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)

純度：鉬濺射靶材的純度要求較高，一般需達(dá)到 99.95% 甚至 99.99% 以上。高純度的鉬靶材可以減少雜質(zhì)對(duì)鍍膜質(zhì)量的影響，提高太陽(yáng)能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。例如，雜質(zhì)元素可能會(huì)在鍍膜過(guò)程中形成缺陷，影響薄膜的導(dǎo)電性和光學(xué)性能。

雜質(zhì)含量：嚴(yán)格控制各種雜質(zhì)元素的含量，如鐵（Fe）、鎳（Ni）、鉻（Cr）、銅（Cu）等。這些雜質(zhì)元素的含量通常要求在 ppm（百萬(wàn)分之一）甚至 ppb（十億分之一）級(jí)別。例如，鐵元素含量過(guò)高可能會(huì)導(dǎo)致薄膜的磁性增加，影響電池的性能。

密度：鉬濺射靶材的密度應(yīng)接近理論密度，一般要求相對(duì)密度達(dá)到 99% 以上。較高的密度可以保證靶材在濺射過(guò)程中具有均勻的濺射速率和良好的鍍膜質(zhì)量。

硬度：合適的硬度對(duì)于靶材的加工和使用非常重要。一般來(lái)說(shuō)，鉬濺射靶材的硬度應(yīng)控制在一定范圍內(nèi)，以保證靶材在加工過(guò)程中不易變形，同時(shí)在濺射過(guò)程中能夠均勻地被濺射。

熱膨脹系數(shù)：靶材的熱膨脹系數(shù)應(yīng)與基底材料相匹配，以減少在鍍膜過(guò)程中因溫度變化而產(chǎn)生的應(yīng)力，避免薄膜出現(xiàn)裂紋或脫落現(xiàn)象。

晶粒尺寸：晶粒尺寸均勻且細(xì)小的靶材具有更好的濺射性能。一般要求鉬濺射靶材的晶粒尺寸在幾十微米到幾百微米之間，并且晶粒尺寸的偏差應(yīng)控制在較小范圍內(nèi)。

晶向取向：對(duì)于某些特定的應(yīng)用，靶材的晶向取向也有一定要求。例如，在一些情況下，要求靶材具有特定的晶向取向，以提高薄膜的生長(zhǎng)質(zhì)量和性能。

表面粗糙度：靶材表面應(yīng)具有較低的粗糙度，一般要求表面粗糙度 Ra 在 0.2μm 以下。光滑的表面可以保證濺射過(guò)程的穩(wěn)定性，減少顆粒產(chǎn)生的可能性。

表面缺陷：靶材表面不得有裂紋、孔洞、砂眼等缺陷。這些缺陷可能會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中出現(xiàn)異常放電現(xiàn)象，影響鍍膜質(zhì)量。

直徑和厚度：靶材的直徑和厚度應(yīng)符合設(shè)計(jì)要求，并且尺寸偏差應(yīng)控制在較小范圍內(nèi)。一般來(lái)說(shuō)，直徑偏差應(yīng)控制在 ±0.1mm 以?xún)?nèi)，厚度偏差應(yīng)控制在 ±0.05mm 以?xún)?nèi)。

平面度和垂直度：靶材的平面度和垂直度也有一定要求。平面度偏差應(yīng)控制在 ±0.05mm 以?xún)?nèi)，垂直度偏差應(yīng)控制在 ±0.1° 以?xún)?nèi)。

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