光伏產(chǎn)業(yè)用鉬濺射靶材質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)

純度：鉬濺射靶材的純度要求較高，一般需達(dá)到 99.95% 甚至 99.99% 以上。高純度的鉬靶材可以減少雜質(zhì)對鍍膜質(zhì)量的影響，提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。例如，雜質(zhì)元素可能會在鍍膜過程中形成缺陷，影響薄膜的導(dǎo)電性和光學(xué)性能。

雜質(zhì)含量：嚴(yán)格控制各種雜質(zhì)元素的含量，如鐵（Fe）、鎳（Ni）、鉻（Cr）、銅（Cu）等。這些雜質(zhì)元素的含量通常要求在 ppm（百萬分之一）甚至 ppb（十億分之一）級別。例如，鐵元素含量過高可能會導(dǎo)致薄膜的磁性增加，影響電池的性能。

密度：鉬濺射靶材的密度應(yīng)接近理論密度，一般要求相對密度達(dá)到 99% 以上。較高的密度可以保證靶材在濺射過程中具有均勻的濺射速率和良好的鍍膜質(zhì)量。

硬度：合適的硬度對于靶材的加工和使用非常重要。一般來說，鉬濺射靶材的硬度應(yīng)控制在一定范圍內(nèi)，以保證靶材在加工過程中不易變形，同時在濺射過程中能夠均勻地被濺射。

熱膨脹系數(shù)：靶材的熱膨脹系數(shù)應(yīng)與基底材料相匹配，以減少在鍍膜過程中因溫度變化而產(chǎn)生的應(yīng)力，避免薄膜出現(xiàn)裂紋或脫落現(xiàn)象。

晶粒尺寸：晶粒尺寸均勻且細(xì)小的靶材具有更好的濺射性能。一般要求鉬濺射靶材的晶粒尺寸在幾十微米到幾百微米之間，并且晶粒尺寸的偏差應(yīng)控制在較小范圍內(nèi)。

晶向取向：對于某些特定的應(yīng)用，靶材的晶向取向也有一定要求。例如，在一些情況下，要求靶材具有特定的晶向取向，以提高薄膜的生長質(zhì)量和性能。

表面粗糙度：靶材表面應(yīng)具有較低的粗糙度，一般要求表面粗糙度 Ra 在 0.2μm 以下。光滑的表面可以保證濺射過程的穩(wěn)定性，減少顆粒產(chǎn)生的可能性。

表面缺陷：靶材表面不得有裂紋、孔洞、砂眼等缺陷。這些缺陷可能會導(dǎo)致濺射過程中出現(xiàn)異常放電現(xiàn)象，影響鍍膜質(zhì)量。

直徑和厚度：靶材的直徑和厚度應(yīng)符合設(shè)計要求，并且尺寸偏差應(yīng)控制在較小范圍內(nèi)。一般來說，直徑偏差應(yīng)控制在 ±0.1mm 以內(nèi)，厚度偏差應(yīng)控制在 ±0.05mm 以內(nèi)。

平面度和垂直度：靶材的平面度和垂直度也有一定要求。平面度偏差應(yīng)控制在 ±0.05mm 以內(nèi)，垂直度偏差應(yīng)控制在 ±0.1° 以內(nèi)。

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