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哪種舟更適合用于半導體行業?

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鎢舟更適用的場景

超高溫度工藝:在一些需要極高溫度的半導體工藝中,如某些特殊材料的高溫燒結、蒸發高熔點金屬或化合物進行鍍膜等,鎢舟由于其高達 3422℃的熔點,能承受比鉬舟更高的溫度而不熔化變形,可確保工藝的穩定性和重復性。例如在制備一些高熔點金屬薄膜,如鎢膜、鉬膜等時,鎢舟可以在更高的蒸發溫度下工作,有利于提高薄膜的沉積速率和質量。

高精度要求且質量非關鍵因素:對于一些對精度要求極高的半導體制造工藝,如極紫外光刻(EUV)設備中的某些部件制造,鎢舟的高密度和高強度可以使其在承受高溫和外力時保持更好的尺寸穩定性,減少因變形等因素導致的工藝誤差。雖然鎢舟質量較大,但在這些對質量不十分敏感的高精度場景中,其優勢更為突出。

強輻射環境:在一些可能存在強輻射的半導體工藝環境中,例如離子注入等工藝,鎢的抗輻射性能相對較好,鎢舟能夠在這種環境下保持較好的性能穩定性,不易受到輻射的影響而發生結構或性能的變化。

鉬舟更適用的場景

對溫度均勻性要求高的鍍膜工藝:鉬舟具有良好的導電性和導熱性,能夠更均勻地傳遞熱量和電流,在半導體薄膜沉積工藝,如物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)等對溫度均勻性要求較高的鍍膜工藝中,鉬舟可以使蒸發源更加穩定,從而提高鍍膜的均勻性和質量,有助于形成均勻、致密的半導體薄膜,減少薄膜厚度和成分的不均勻性。

高頻加熱工藝:在一些采用高頻感應加熱等方式的半導體加工工藝中,鉬的導電性和電磁性能使其能夠更好地與高頻電磁場耦合,實現更高效的加熱,并且鉬舟在高頻環境下的穩定性較好,能夠減少因電磁感應產生的渦流損耗和發熱不均勻等問題。

對質量敏感的設備或工藝:由于鉬的密度約為鎢的一半,鉬舟質量更輕,在一些需要頻繁更換舟體或對設備負載有嚴格要求的半導體工藝中,如小型的半導體鍍膜設備、實驗室規模的半導體研發工藝等,鉬舟更便于操作和安裝,能夠降低設備的運行成本和維護難度。

與部分材料兼容性好的工藝:在半導體制造中,有時需要處理一些與鉬兼容性較好的材料,例如在某些含鉬化合物的制備或加工過程中,使用鉬舟可以減少材料與舟體之間的化學反應,避免對工藝產生不利影響。而且鉬在一些氧化性相對較弱的環境中,化學穩定性也能滿足要求,不易對半導體材料造成污染。

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