金屬冶煉：用于稀土金屬（如鈰、鑭）及難熔金屬（鉬、鉭、鈮）冶煉，能承受超 2000℃高溫，保證金屬純度與冶煉效果。
半導體：在單晶硅生長、外延片制備環節，提供穩定高溫，確保晶體純度與結構，提升半導體器件性能，滿足高純度要求。
光學玻璃：應用于石英玻璃熔煉及特種光學玻璃制備，穩定的高溫環境與化學穩定性，保障玻璃純度與光學性能。
電子工業：在電子束蒸發鍍膜、離子注入工藝中，承受電子束高溫，適應不同鍍膜材料，確保工藝準確性，用于芯片制造等領域。
科研：服務于材料科學、物理學等高溫實驗，助力新型特種材料（如高溫超導、納米材料）制備，提供穩定高溫反應環境。
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