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新聞詳情

如何選擇鈮靶材的制造工藝？

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工藝對比：

工藝類型適用場景優勢劣勢
粉末冶金復雜形狀靶材成本低，密度≥98%濺射速率較低（0.1-0.2μm/min）
真空熔煉大尺寸靶材晶粒均勻，純度提升至 5N設備投資高
冷等靜壓超高純度靶材雜質含量＜5ppm生產周期長

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